Festkörperphysikalische Grundlagen der Strukturanalyse des Festkörpers:

• Röntgenografische Strukturanalyse: Charakterisierung kristalliner Defekte, Bestimmungsmethoden der Kristallitgröße, Textur- und Spannungsmessungen, Strukturbestimmung mittels Rietveldverfeinerung, Hochauflösende Röntgenbeugung (HRXRD), Röntgen-Reflektometrie (XRR)

Ausgewählte Grundlagen der Oberflächenphysik und der Nanostrukturen:

• Methoden der Oberflächen- und Grenzflächenanalytik, Geometrische und elektronische Struktur von Oberflächen, Experimentelle Untersuchungen an Oberflächen (LEED, Hochauflösende Transmissions-Elektronen-Mikroskopie, UHV-Elektronenspektroskopie)

Rastersondenmikroskopie - Erzeugung und Charakterisierung von Nanostrukturen:

• Instrumentelle Technik und Messmethoden der Rastersondenmikroskopie, Präparation von Nano-strukturen mittels AFM und STM; Aspekte der Metrologie auf der Nanometerskala, Kalibrierstrategien, Aspekte der Raster-Tunnel-Spektroskopie

Charakterisierung von Nanometer-Schichten und Multilayern:

• Quantitative XPS-Analyse, XPS- und AES-Tiefenprofilanalytik, Beispiele, Grundlagen der Valenz-bandspektroskopie (UPS) in Kombination mit UHV-Sondenmikroskopie

Praktikum:

• AFM/STM-Versuch, Quantitative XPS-Analyse und Auswertung von XPS-Tiefenprofilen, Charakterisierung von Nanometerschichten, Feldemissions-Rasterelektronenmikroskopie, REM-Analyse an Werkstoffgrenzflächen, Messung von Polfiguren, röntgenografische Spannungsanalyse, Röntgen-Reflektometrie zur Dünnschichtanalyse